リズム・インストを作成する

- [SHIFT]ボタンを押しながら[5]ボタンを押して、パートRをカレント・パートにします。
- キーボード・ボタンを押して、設定したいリズム・インストを選びます。
- 選んだインストの設定がトップ画面に表示され、パネルのつまみで選んだインストのパラメーターを設定できるようになります。
OSCセクション

- [1]つまみ、[ä][å]または[OSC 1][OSC 2]ボタンで波形を設定したいレイヤーを選びます。
- [2]つまみ(トップ画面が表示されているときのみ)または[MODEL]つまみで波形を選びます。
- [2]つまみ、[PITCH]つまみ、[OSC 1]スライダー、[OSC 4]ボタンは、手順1で選んだレイヤーのパラメーターを設定します。
パラメーター | 操作子 | 設定値 | 説明 |
---|---|---|---|
Layer 1/2 Waveform | [2]つまみ(トップ画面のみ)、[MODEL]つまみ | - | 各レイヤーで再生する波形を選びます。 |
Layer 1/2 Coarse Tune | PITCH | -48~+48 | 各レイヤーの音の高さを半音単位(±4オクターブまで)で設定します。 |
Layer 1/2 Fine Tune | SHIFT+PITCH | -50~+50 | 各レイヤーの音の高さを1セント単位(±50セントまで)で設定します。 |
Layer Balance | TIMBRE | 127:0~0:127 | 2つのレイヤー同士の音量のバランスを設定します。 127:0のとき、レイヤー1のみが発音します。 |
Layer 1/2 FXM Depth | [OSC 1]スライダー | 0~16 | FXMによる周波数変調の深さを設定します。 |
PEnv Attack | [OSC 2]スライダー | 0~255 | ピッチ・エンベロープのアタック・タイムを設定します。 |
PEnv Decay | [OSC 3]スライダー | 0~255 | ピッチ・エンベロープのディケイ・タイムを設定します。 |
PEnv Depth | [OSC 4]スライダー | 0~+100 | ピッチ・エンベロープの効き具合を設定します。 値を大きくするほどピッチ・エンベロープによる変化が大きくなります。 |
Layer 1/2 FXM Color | [OSC 4]ボタン | 1~4 | FXMによる周波数変調のしかたを設定します。 値が大きくなるほどざらつきのある音に、値が小さくなるほど金属的な音になります。 |
FILTER/AMP/LFOセクション
リズム・インストごとに、以下のパラメーターを調節して波形を加工することができます。
セクション | 操作子 | 設定値 | 説明 |
---|---|---|---|
FILTER | TYPE | フィルターの種類を選びます。 | |
LPF | ロー・パス・フィルター。カットオフ周波数(Cutoff Frequency)より上の成分をカットします。 高域の周波数をカットするので音が丸くなります。 | ||
BPF | バンド・パス・フィルター。カットオフ周波数(Cutoff Frequency)付近の成分だけ残して他をカットします。 | ||
HPF | ハイ・パス・フィルター。カットオフ周波数(Cutoff Frequency)より下の成分をカットします。 | ||
CUTOFF | 0~1023 | フィルターのカットオフ周波数を決めます。 | |
RES | 0~1023 | フィルターのカットオフ周波数付近を強調します。 値を大きくするほど強調の度合いが大きくなり、シンセサイザー特有のクセのある音になります。 | |
FLT ENV ATTACK | 0~255 | フィルター・エンベロープのアタック・タイムを設定します。 | |
FLT ENV DECAY | 0~255 | フィルター・エンベロープのディケイ・タイムを設定します。 | |
FLT ENV SUSTAIN | 0~1023 | フィルター・エンベロープのサステイン・レベルを設定します。 | |
FLT ENV RELEASE | 0~1023 | フィルター・エンベロープのリリース・タイムを設定します。 | |
FLT ENV DEPTH | -63~+63 | カットオフ周波数をフィルター・エンベロープでコントロールするときのかかり具合を調節します。 | |
AMP | AMP ENV ATTACK | 0~255 | アンプ・エンベロープのアタック・タイムを設定します。 |
AMP ENV DECAY | 0~255 | アンプ・エンベロープのディケイ・タイムを設定します。 | |
AMP ENV SUSTAIN | 0~1023 | アンプ・エンベロープのサステイン・レベルを設定します。 | |
AMP ENV RELEASE | 0~1023 | アンプ・エンベロープのリリース・タイムを設定します。 | |
PAN | L63~63R | ステレオ出力するときの、リズム・インストの音の定位を設定します。 | |
LEVEL | 0~127 | リズム・インストの音量を調節します。 |
- パートRでは、HPF、KEY-F、DRIVEおよびLFOセクションのつまみは操作することができません。